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微波去胶机(ALPHA PLASMA Q235)

发布时间：2025-03-04    作者：    来源： yl23455永利官网    浏览次数：    打印


仪器型号：Q235

生产厂家：ALPHA PLASMA

技术参数：

（1）去胶速度：光刻胶种类为AZ系列正胶时不小于0.1μm/min 去除速率；

（2）支持晶圆尺寸：单片最大8英寸，兼容8英寸以下的晶圆或碎片；

（3）支持批量晶圆尺寸和数量：石英舟承载6英寸晶圆时，一次最大数量25片；

（4）等离子源频率和功率：2.45GHz微波源，最大功率600W，且50-600W连续可调；

（5）两路工艺气体管道，分别连接氧气和氩气，可将其中一路替换为CF4气体；

（6）控制方式：10.4英寸液晶触摸屏控制。

主要功能及特色：

用于半导体加工工艺及其它薄膜加工工艺过程中，对各类光刻胶进行化学性的干法去除、基片清洗。

预约链接：

http://equip.csu.edu.cn/lims/!equipments/equipment/index.3601.reserv

校内收费标准：

50元/次。

联系人：

程老师 18692257791  

 


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