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反应离子刻蚀机(SENTECH SI591)

发布时间：2025-03-04    作者：    来源： yl23455永利官网    浏览次数：    打印


仪器型号：SI591

生产厂家：SENTECH

技术参数：

（1）样品尺寸为最大直径8英寸；

（2）上电极为铝电极，带气体喷淋头，中央配置光学窗口、用于原位检测；

（3）上电极源射频发生器：频率13.56MHz，功率≥600W；

（4）五路工艺气体管路，包括CF4、CHF3、SF6、O2、Ar等工艺气体。

主要功能及特色：

反应离子刻蚀机(RIE)是一种常用的干法刻蚀设备，其工作原理综合了物理和化学蚀刻的过程。在RIE设备中，通过高频电场使反应气体产生辉光放电，形成等离子体。等离子体中的活性离子与被刻蚀材料发生物理和化学反应，从而实现对材料的刻蚀。

预约链接：

http://equip.csu.edu.cn/lims/!equipments/equipment/index.3599.reserv

校内收费标准：

300元/小时。

联系人：

程老师18692257791

 

 


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