仪器型号:ORION 8
生产厂家:AJA INTERNATIONAL. INC

技术参数:
(1)基片尺寸:4英寸;加热温度:≤850℃ ±1℃;
(2)电源最大功率:射频电源300W,直流电源 200W;
(3)极限真空压强:5*10-8Torr;
(4)薄膜均匀性:直径100nm硅片镀制100nm以上的薄膜,均匀性可达±2.5%;
(5)薄膜重复性:同样镀膜工艺做三个样品,重复率偏差优于±3%。
主要功能及特色:
用于纳米级单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等薄膜材料的制备。当前有靶材( Al, Cu, Ni, W, ITO, Al2O3, SiO2, NiO, TiO2, Ga2O3, SnO2, In2O3, ZrO2)。
预约链接:
http://equip.csu.edu.cn/lims/!equipments/equipment/index.3597.reserv
校内收费标准:
400元/小时;耗材按实际使用收费,可自带靶材(2英寸)。
联系人:
马老师 18692257791